中芯國際續(xù)單ASML光刻機后 國產(chǎn)光刻膠迎重大進展

繼中芯國際續(xù)單ASML光刻機后，國產(chǎn)半導體光刻膠領域再迎喜訊。

周一（8日）盤后，上海新陽公告稱，經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，ASML-1400光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創(chuàng)新中心（北京）有限公司場地，后續(xù)將進行安裝調試等相關工作。公司采購的ASML干法光刻機設備順利交付，對加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進度有積極影響。

值得一提的是，天眼查顯示，合作方北方集成電路技術創(chuàng)新中心（北京）有限公司大股東為芯鏈融創(chuàng)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展（北京）有限公司，后者由北京凱世通半導體有限公司在內的26個國內半導體優(yōu)質公司共同出資組建。中芯國際、北京亦莊則占比各為25%并列為第二大股東。

立項4年屢遭挫折 國產(chǎn)替代浪潮下終現(xiàn)曙光

對于上海新陽本身來說，ASML干法光刻機設備順利交付意義非凡。公開資料顯示，早在2016年底，上海新陽即已立項研發(fā)193納米干法光刻膠，但在隨后的研發(fā)過程中進展屢遭挫折。

2018年3月，上海新陽和上海逸納共同出資設立芯刻微，從事193nm干法高端光刻膠產(chǎn)品的研究與產(chǎn)業(yè)化工作，但雙方于次年5月終止合作；同年12月，公司以自有資金投資江蘇博硯電子科技有限公司，持有博硯電子公司10%的股權，后者主要從事平板顯示產(chǎn)業(yè)用相關光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)、生產(chǎn)。

2019年10月，上海新陽啟動合肥第二生產(chǎn)基地項目的建設。合肥基地占地115畝，總投資約6億元。按照部署，一期計劃投資3億元，占地50畝，達產(chǎn)后形成年產(chǎn)15000噸超純化學材料產(chǎn)品的生產(chǎn)能力。根據(jù)公司在定增公告中所說，此次定增擬將部分資金投資于該項目。

進入2020年，上海新陽在該項目上的投入越發(fā)激進。8月，公司公告擬定增募資不超15億元，其中7.32億元用于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項目。主要開發(fā)ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品，力爭于2023年前實現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。

11月，公司再次公告擬向特定對象發(fā)行股票募集資金總額不超過14.5億元，其中8.15億元再投上述項目。若項目按計劃進度進行，預計KrF厚膜光刻膠2021年開始實現(xiàn)少量銷售，2022年可實現(xiàn)量產(chǎn)，預計ArF（干式）光刻膠項目在2022年可實現(xiàn)少量銷售，2023年開始量產(chǎn)，預計當年各項產(chǎn)品銷售收入合計可達近2億元。

東吳證券分析師柴沁虎去年3月16日報告曾指出，上海新陽一直致力于進行半導體用光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，雖然中間走過一段彎路，但參股博硯電子后，可以有效借鑒博硯電子的成功經(jīng)驗。同時，公司和博硯電子也有一定程度的產(chǎn)業(yè)協(xié)同，認為公司是國內最有可能率先在集成電路制造用高端光刻膠取得實質性突破的企業(yè)。

阿斯麥關鍵設備“松綁” 國產(chǎn)高端光刻膠持續(xù)突破

去年以來，國產(chǎn)替代浪潮席卷半導體行業(yè)，而光刻膠作為半導體光刻工藝的核心材料，決定了半導體圖形工藝的精密程度和良率，成為了其中最受矚目的環(huán)節(jié)之一。

2020年12月17日，南大光電公告稱，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的193nm ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶的使用認證，標志國內第一支通過產(chǎn)品驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠就此誕生，意味著長期被國外壟斷的ArF光刻膠終于邁出了國產(chǎn)化的第一步。

據(jù)了解，按不同制程，半導體用光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均為高端光刻膠產(chǎn)品，產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年國內在g線/i線光刻膠僅達到20%自給率，而KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠則完全依賴進口。

高端光刻膠國產(chǎn)替代艱難的背后，是其研發(fā)過程中對高端光刻機的嚴重依賴。由于在研發(fā)光刻膠的過程中需要有對應光刻機的支持，規(guī)模量產(chǎn)后需要在光刻機上不斷調試。而先進光刻機價格昂貴，國內半導體材料公司難以承受，因而高端光刻膠基本被日本及歐美壟斷。

就在本月3日，中芯國際公告稱，與荷蘭光刻機制造商阿斯麥簽訂購買單，金額達12.02億美元。另據(jù)《科創(chuàng)板日報》1日獨家獲悉，為中芯國際提供高制程（14nm及以上）工藝部分產(chǎn)品所需設備的美國設備商，已獲美許可證。

對此，華金證券胡慧團隊3月7日報告認為，中芯國際14nm及以上成熟制程禁令“松綁”，代表著我國大陸晶圓代工龍頭在成熟制程上的發(fā)展前景進一步明朗，預期未來將有更多美國設備供應商獲得供應許可。

中金公司彭虎團隊同日報告也指出，半導體設備和材料是高端制造業(yè)發(fā)展的基礎，結合中芯國際潛在成熟制程獲取美國設備許可證，建議關注上游設備及原材料的機會。

另據(jù)華泰證券胡劍團隊2020年11月18日報告，在半導體供應鏈安全逐漸得到重視的背景下，國產(chǎn)光刻膠研發(fā)和量產(chǎn)或將提速，國內廠商紛紛計劃在被日美壟斷的半導體光刻膠領域擴大投入，并在高端ArF光刻膠領域研發(fā)和量產(chǎn)持續(xù)突破。